Supporto per wafer di grafite per la lavorazione di semiconduttori
I supporti per wafer di grafite sono componenti lavorati con precisione utilizzati nelle apparecchiature di produzione di semiconduttori per contenere e trasportare wafer di silicio durante fasi di lavorazione ad alta temperatura come diffusione, CVD ed epitassia.
Realizzati in grafite isostatica ad elevata purezza con eccellente stabilità termica e bassa contaminazione, i nostri supporti per wafer garantiscono una lavorazione piatta e uniforme dei wafer a temperature fino a 1200°C.
Caratteristiche principali
- Materiale in grafite ad elevata purezza con basse impurità metalliche
- Tasche lavorate con precisione per un accurato allineamento dei wafer
- Eccellente stabilità termica alle alte temperature
- Basso degassamento in ambienti sotto vuoto e con gas di processo
- Disponibili dimensioni e configurazioni tascabili personalizzate
- Opzione di rivestimento SiC per una maggiore durata
Applicazioni
- Forni a diffusione per semiconduttori
- Apparecchiature per il trattamento CVD e PVD
- Crescita del wafer epitassiale
- Produzione di celle solari fotovoltaiche
Perché scegliere Jincheng
- 15 anni di esperienza in componenti di grafite per semiconduttori
- Produzione in camera bianca per una bassa contaminazione
- Servizio di progettazione personalizzata in base ai requisiti delle vostre apparecchiature
- Prezzi competitivi e consegna veloce
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