Elementi riscaldanti in grafite semiconduttrice
Jincheng Graphite, in qualità di produttore professionale di prodotti in grafite, fornisce elementi riscaldanti in grafite a semiconduttore di elevata-purezza e alta-stabilità. Questi sono appositamente progettati per processi ad alta-temperatura di wafer, apparecchiature per il vuoto e scenari precisi di gestione termica. Possiedono vantaggi fondamentali come resistenza alle alte temperature, bassa resistenza termica e lunga durata e sono ampiamente utilizzati nell'industria manifatturiera dei semiconduttori.
Punti di forza fondamentali
Elevata purezza e resistenza alle alte-temperature
Utilizzando un substrato di grafite su scala nano-, con un contenuto di carbonio maggiore o uguale al 99,99%, può resistere a temperature superiori a 1500 gradi. È adatto per processi ad alta-temperatura come la ricottura e la sinterizzazione di wafer semiconduttori, prevenendo l'ossidazione del materiale o la deformazione strutturale.
Bassa resistenza termica e riscaldamento uniforme
Attraverso uno speciale processo di sinterizzazione, la conduttività termica viene aumentata a 200-300 W/m·K, con una resistenza termica inferiore a 0,1 K/W. Ciò garantisce una temperatura uniforme sulla superficie del wafer, riducendo il calo di rendimento causato dal surriscaldamento locale.
Resistenza meccanica e stabilità chimica
Dopo la sinterizzazione ad alta-temperatura, la resistenza alla compressione è maggiore o uguale a 40 MPa, resistente alla corrosione acida e alcalina e adatta all'ambiente altamente pulito nella produzione di semiconduttori, prolungando la durata di servizio dell'apparecchiatura.
Scenario applicativo
Apparecchiature per il trattamento ad alta temperatura-di wafer
Come materiale della camera di riscaldamento, può resistere a sbalzi di temperatura estremi, garantendo la stabilità termica del wafer durante processi come la ricottura e la deposizione.
Sistema di trattamento termico sotto vuoto
Combinando le caratteristiche di basso attrito degli elementi riscaldanti in grafite, è adatto per ambienti ad alto-vuoto per il riscaldamento ad alta-temperatura, riducendo la contaminazione causata dall'adsorbimento del gas.
Attrezzature per lo stampaggio a caldo dell'imballaggio di semiconduttori
Ottenendo un riscaldamento rapido e uniforme grazie all'elevata conduttività termica, migliora l'efficienza dei processi di imballaggio e riduce i costi di consumo energetico.
Parametri tecnici
| Contenuto di carbonio | Maggiore o uguale al 99,99% |
| Conduttività termica | 200 - 300 W/m·K (condizioni di test: 25 gradi) |
| Resistenza alla compressione | Maggiore o uguale a 40 MPa |
| Intervallo di temperatura operativa | -200 gradi a 1500 gradi |
| Trattamento superficiale | Lucidatura/Rivestimento (personalizzabile) |
Garanzia di qualità della grafite Jincheng
Basandosi su 20 anni di esperienza nella ricerca sui materiali in grafite, Jincheng Graphite adotta una tecnologia di sinterizzazione brevettata e una tecnologia nano-composita per garantire la stabilità degli elementi riscaldanti in grafite semiconduttrice in condizioni estreme. Certificato dal sistema di qualità ISO 9001 e dagli standard aerospaziali AS9100, soddisfa i requisiti di scenari di elevata pulizia e alta affidabilità.
Impegno di cooperazione
Jincheng Graphite fornisce soluzioni di elementi riscaldanti personalizzate, supportando sia la produzione di prova in piccoli-lotti che la produzione di massa su-scala, garantendo un ciclo di consegna breve e costi controllabili. Attraverso la rete logistica globale e il team di assistenza locale, offre ai clienti servizi integrati efficienti e affidabili per gli elementi riscaldanti in grafite, contribuendo a migliorare i processi di produzione dei semiconduttori.
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